分析儀器溫度控制常用器件---半導體制冷片

IVD檢測設備需要通過試劑與樣本中的待檢測物質發生反應，通過光或電的方式檢測反應后物質的信號，從而完成樣本中待檢測物的檢測。而檢測試劑對存儲環境有嚴格的要求，一般需要存儲在2-8℃的低溫環境中。

　　分析儀器中為試劑提供存儲的區域為試劑倉，需要通過冷源持續為試劑倉提供制冷，從而保證試劑倉內溫度始終維持在適宜的溫度范圍內。

　　常用的冷源包括兩大類：

　　半導體制冷：優點是體積小，工作時震動和噪音小，無需制冷劑，無污染，缺點是制冷效率低，功耗大。

　　壓縮機制冷：優點是制冷效率高，缺點是工作時震動和噪音較大。

　　在實際應用中，一般在需求制冷功率相對小的儀器，會選擇采用制冷片制冷的方式，而需求制冷功率大得儀器，選擇采用壓縮機制冷的方式。

　　制冷片原理：

　　制冷片利用半導體材料的Peltier效應，當直流電通過兩種不同半導體材料串聯成的電偶時，在電偶的兩端即可分別吸收熱量和放出熱量，可以實現制冷的目的。它是一種產生負熱阻的制冷技術，其特點是無運動部件，可靠性也比較高。制冷片俗稱“熱泵”，將熱量從冷端轉移到熱端，從而完成對冷端的制冷。

　　在結構上，半導體制冷片中封存了很多N,P半導體，他們聯結在一起，形成眾多的熱電偶對，熱電偶對再串聯、并聯實現工作。當有方向的電流通過是，熱電偶對之間就會產生能量轉移，從一端轉移到另一端，從而產生溫差形成冷熱端。

　　標簽：半導體制冷片